ギガフォトンの「GT61A」エキシマレーザ、 韓国大手半導体メーカーが 次世代液浸リソグラフィアプリケーションに採用

ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ )は、同社のフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザの最新モデル「GT61A」を搭載した最先端液浸リソグラフィ装置が、韓国の大手半導体メーカーに設置され、最先端プロセス技術開発に使用されることを発表しました。ギガフォトンでは、2007年末までにはこのレーザを搭載した液浸リソグラフィ装置が量産用に採用されると期待しています。

今回の発表について、ギガフォトン社長の渡辺裕司は以下のようにコメントしています。「次世代液浸リソグラフィアプリケーションの厳しい要求に応える当社のエキシマレーザ光源が、半導体メーカーの信頼を得たことをこの発表は示すものです。当社の最先端エキシマレーザ製品シリーズの優れた品質・信頼性及びスループットが、より多くの半導体メーカーに高く評価され続けることで、当社の事業が今後益々成長すると我々は確信しています」。

液浸リソグラフィ光源として使用されるArFエキシマレーザでは、高スループットを実現するために、高出力と安定したスペクトル性能を両立させなくてはなりません。GTシリーズ3世代目のGT61Aは、この難問に正面から取り組みました。高出力と高繰り返し周波数(6000 Hz)に加えて、GT61Aはスペクトル線幅(E95)で30%の改善を実現しています。これによって、GT61Aは1.30を超える開口度(NA)を持つ最先端液浸リソグラフィ装置が要求する厳しい仕様に適合することができます。更に、GT61Aではレーザチャンバの寿命も大幅に改善され、ダウンタイムと保守コストの大幅な低減を実現しています。

業界最先端のスペクトル安定性
GT61Aは、システムの寿命全体にわたって高度に安定したスペクトル性能を提供する安定化メカニズムを特長としています。狭いCD制御条件内での厳密なCD制御を維持することが求められる液浸リソグラフィでは、レーザスペクトルの安定性は極めて重要になります。また、GT61Aではレーザ間のスペクトル性能ばらつきを安定させることにより、スキャナ間のCD誤差要因を解消します。これにより半導体メーカーは生産環境で複数台のスキャナで同一プロセスを実行する時に最適なマッチングを実現することができます。

ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。ギガフォトンに関する詳細は。同社のウェブサイト http://www.gigaphoton.comにアクセスしてください。

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