ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、同社の液浸露光装置用の最先端エキシマレーザ光源「GT61A」が、東芝のフラッシュメモリ量産基地である四日市工場に設置されたと発表しました。
半導体量産工場では、露光装置光源であるエキシマレーザの高稼働率の維持が極めて重要です。また、フラッシュメモリの量産においては性能面、特にスペクトルの安定性が極めて高いことが要求されます。ギガフォトンは、東芝の厳しい要求水準に応えるメーカーとして技術・サポートの両面が高く評価され、今回の量産装置への選定につながりました。
GT61Aが東芝の量産工場に導入されたことについて、ギガフォトン社長の渡辺裕司は次のようにコメントしています。「当社のエキシマレーザ光源が、最先端ArF液浸量産装置として導入されたことは大変光栄です。信頼性･安定性をいち早く市場にお届けするという当社の考えを評価いただいた結果と捉え、今後もさらなる改善を重ねてお客様の生産性向上に寄与していきたいと考えます。」
これまでの最先端半導体リソグラフィプロセスでは、ArFドライリソグラフィが量産工場の主力となっていました。しかし、ますます加速する集積回路パターン微細化に対応すべく、液浸ArFリソグラフィ技術がいよいよ量産プロセスとして使われ始めています。光源のArFエキシマレーザに対しては、液浸ArFリソグラフィに対応できる高い出力、高いスループットを確保するための高周波数、スペクトル安定性能への要求が一層高まってきています。
GT61Aは、N.A. 1.3を超えるHyper N.A露光機に対応するリソグラフィ用光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザの新製品で、発振波長は193 nm、発振周波数は6,000 Hzで60ワットの出力を提供します。GT61Aは、GT40A/GT60Aに続くGTシリーズの最新モデルで、業界初のインジェクションロック方式を採用したプラットフォームの3世代目にあたります。ギガフォトンはGT60Aで実現した高出力、高周波数技術に加え、GT61AではN.A. 1.3以上の液浸露光装置へ対応するために、スペクトル幅(E95%)をGT40A/GT60Aから30%向上させることに成功しました。また、性能の向上だけでなくレーザチャンバの寿命を大幅に改善し、ダウンタイム低減・メンテナンス費用削減に大きく貢献します。
ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として設立されました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。ギガフォトンに関する詳細は、ウェブサイト http://www.gigaphoton.comをご覧ださい。
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http://www.gigaphoton.com/OYAMA, Japan, December 3, 2007 – Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer for the global semiconductor industry, today announced that its latest ArF excimer laser light source for immersion lithography, the GT61A, has been installed at Toshiba’s Yokkaichi, Japan fab for use in high-volume production of NAND flash memory devices.
In advanced semiconductor lithography processes, dry ArF lithography has served as the mainstream solution for volume production—although immersion ArF lithography is fast emerging as a viable solution in addressing the requirements associated with continuously shrinking circuit patterns. For an ArF excimer laser to be used as an immersion lithography light source, however, it must be able to deliver a high level of output power and stable spectrum performance in order to maximize throughput. Renowned for its leading-edge technologies in achieving these performance demands, along with its superior support capabilities, Gigaphoton was selected by Toshiba as the excimer laser supplier of choice for their mass-production lithography applications. To this end, the company cites GT61A’s ability to deliver the highest spectrum stability as a critical factor in their selection criteria.
Commenting on the GT61A’s installation at Toshiba’s mass-production plant, Gigaphoton President Dr. Yuji Watanabe noted, “We are very proud that our ArF excimer laser light source has been selected by Toshiba for its immersion lithography applications. We believe that this is a result of our ability to deliver this leading-edge light source in a timely manner, coupled with its proven performance, which includes high reliability and stability. We continue to see more and more customers turn to our excimer laser solutions for their immersion lithography needs given our demonstrated ability to deliver superior products, advanced performance and around the clock support, all of which ultimately enhance overall productivity.”
The GT61A is the latest ArF excimer laser product to leverage injection-locking technology to enable the finer spectrums and high output power needed to meet the rigorous requirements associated with leading-edge immersion tools with numerical apertures (NA) greater than 1.30. It delivers output power of 60 watts at the emission wavelength of 193 nm and repetition rate of 6,000 Hz.
The GT61A, the third-generation model within the GT family, relies on the same injection-locking platform used by its workhorse predecessors, the GT40A and GT60A. In addition to the same high output and high repetition rate (6,000 Hz) achieved by the GT60A, the GT61A delivers a 30 percent improvement in spectral bandwidth (E95%). Moreover, the GT61A also offers improved laser chamber life, thereby, enabling a significant reduction in down time and maintenance costs.
About Gigaphoton
Gigaphoton Inc. was founded in 2000 as a joint venture of Komatsu Ltd., the world’s No. 2 construction machinery manufacturer, and Ushio Inc., the world’s No. 1 lithography lamp manufacturer. Since then, Gigaphoton has been developing and marketing user-friendly, highly innovative laser light sources that make a great contribution to lithography technology so as to meet the stringent requirements of the ultra-fine circuit patterns of the gigabit era, and is delivering them to major lithography tool suppliers in the global semiconductor industry. As one of the world’s leading excimer laser light source manufacturers, Gigaphoton holds a strong position in the Asian market, including Japan, while also continuing to enjoy rapid growth in the U.S. and European markets. More information about Gigaphoton can be found on the company’s website at http://www.gigaphoton.com
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The company name, logo, and designations GT40A, GT60A and GT61A are trademarks of Gigaphoton, Inc. The content of this release may be revised without prior notice. Gigaphoton shall not be liable for updating or announcing a correction if the content of this release is changed for any reason in the future.
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