OYAMA, Japan, September 28, 2007 – Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer for the global semiconductor industry, today announced that a state-of-the-art immersion lithography tool featuring Gigaphoton’s latest GT61A argon fluoride (ArF) excimer laser light source has been installed at a major Korean chip maker for use in leading-edge process technology development.  The company expects to ramp the tool into high-volume production by the end of this year.

“Today’s announcement signals chipmakers’ mounting confidence in our excimer light source solutions in meeting the stringent requirements for next-generation immersion lithography applications.  We believe our business will continue to grow as more manufacturers continue to realize the superior quality, reliability and high throughput benefits afforded by our advanced ArF excimer laser light source product portfolio,” noted Gigaphoton President, Dr. Yuji Watanabe.

For an ArF laser to be used as an immersion lithography light source, it must be able to deliver a high level of output power and stable spectrum performance in order to achieve high throughput.  The GT61A, the third-generation model within the GT family, tackles this challenge head on.  In addition to its high output and high repetition rate (6,000 Hz), the GT61A delivers a 30 percent improvement in spectral bandwidth (E95%).  This enables it to meet the rigorous requirements associated with leading-edge immersion tools with numerical apertures (NA) greater than 1.30.  Moreover, the GT61A also offers improved laser chamber life—enabling a significant reduction in down time and maintenance costs.

Industry-Leading Spectrum Stability
The GT61A features a high-precision measuring instrument and stabilization mechanism, which provides highly stable spectrum performance during the system’s entire lifetime.  Greater laser spectrum stability is especially critical for maintaining tight critical dimension (CD) control within the narrower CD control budgets afforded by immersion lithography.  In addition, the GT61A’s enhanced spectrum stability eliminates a key source of deviation between scanners—supporting the ability of IC manufacturers to achieve optimal matching performance when running the same process on multiple scanners in a production environment.

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About Gigaphoton
Gigaphoton, Inc. was founded in 2000 as a joint venture of Komatsu Ltd., the world’s No. 2 construction machinery manufacturer, and Ushio Inc., the world’s No. 1 lithography lamp manufacturer.  Since then, Gigaphoton has been developing and marketing user-friendly, highly innovative laser light sources that make a great contribution to lithography technology so as to meet the stringent requirements of the ultra-fine circuit patterns of the gigabit era, and is delivering them to major lithography tool suppliers in the global semiconductor industry.  As the No. 2 excimer laser light source manufacturer in the world, Gigaphoton holds a strong position in the Asian market, including Japan, while continuing to enjoy rapid growth in the U.S. and European markets.  More information about Gigaphoton can be found on the company’s website at http://www.gigaphoton.com

The company name, logo, and designations GT40A, GT60A and GT61A are trademarks of Gigaphoton, Inc.  The content of this release may be revised without prior notice.  Gigaphoton shall not be liable for updating or announcing a correction if the content of this release is changed for any reason in the future.
© 2007 Gigaphotonギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、同社のフッ化アルゴン（ArF）エキシマレーザの最新モデル「GT61A」を搭載した最先端液浸リソグラフィ装置が、韓国の大手半導体メーカーに設置され、最先端プロセス技術開発に使用されることを発表しました。ギガフォトンでは、2007年末までにはこのレーザを搭載した液浸リソグラフィ装置が量産用に採用されると期待しています。

今回の発表について、ギガフォトン社長の渡辺裕司は以下のようにコメントしています。「次世代液浸リソグラフィアプリケーションの厳しい要求に応える当社のエキシマレーザ光源が、半導体メーカーの信頼を得たことをこの発表は示すものです。当社の最先端エキシマレーザ製品シリーズの優れた品質・信頼性及びスループットが、より多くの半導体メーカーに高く評価され続けることで、当社の事業が今後益々成長すると我々は確信しています」。

液浸リソグラフィ光源として使用されるArFエキシマレーザでは、高スループットを実現するために、高出力と安定したスペクトル性能を両立させなくてはなりません。GTシリーズ3世代目のGT61Aは、この難問に正面から取り組みました。高出力と高繰り返し周波数（6000 Hz）に加えて、GT61Aはスペクトル線幅（E95）で30%の改善を実現しています。これによって、GT61Aは1.30を超える開口度（NA）を持つ最先端液浸リソグラフィ装置が要求する厳しい仕様に適合することができます。更に、GT61Aではレーザチャンバの寿命も大幅に改善され、ダウンタイムと保守コストの大幅な低減を実現しています。

業界最先端のスペクトル安定性
GT61Aは、システムの寿命全体にわたって高度に安定したスペクトル性能を提供する安定化メカニズムを特長としています。狭いCD制御条件内での厳密なCD制御を維持することが求められる液浸リソグラフィでは、レーザスペクトルの安定性は極めて重要になります。また、GT61Aではレーザ間のスペクトル性能ばらつきを安定させることにより、スキャナ間のCD誤差要因を解消します。これにより半導体メーカーは生産環境で複数台のスキャナで同一プロセスを実行する時に最適なマッチングを実現することができます。

ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。ギガフォトンに関する詳細は。同社のウェブサイト http://www.gigaphoton.comにアクセスしてください。

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社名、ロゴ、GT40A、GT60A、及びGT61Aは、株式会社ギガフォトンの商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。©2007 ギガフォトン

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