OYAMA, Japan, December 6, 2006 – Kicking off SEMICON Japan 2006, Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer for the global semiconductor industry, unveiled the newest addition to its argon fluoride (ArF) excimer laser light source portfolio, the GT61A. With an emission wavelength of 193 nm and a repetition rate of 6,000 Hz, the GT61A is designed for next-generation lithography tools with numerical apertures of 1.3 and higher. Having successfully completed testing and qualification, the GT61A has already begun shipment. Gigaphoton expects the GT61A will be integrated into advanced lithography tools and used within volume production environments at major global semiconductor manufacturers starting mid-2007.

In today’s advanced lithography process, with large scale integration (LSI) circuit patterns becoming increasingly finer, ArF dry lithography has become mainstream at leading-edge volume factories, while immersion lithography has become the most promising next-generation technology on the horizon. For an ArF laser to be used as a light source for immersion ArF lithography, however, a high level of output power and stable spectrum performance are increasingly critical for ensuring high throughput—all without damaging the lens due to this higher level of power. Gigaphoton launched the industry’s first 4-kHz ArF excimer laser mounted with an injection-locking resonator, the GT40A (repetition rate: 4,000 Hz, output: 45 W), during the spring of 2005. The company subsequently unveiled the GT60A (repetition rate and output increased to 6,000 Hz and 60 W) at last year’s SEMICON Japan.

The GT61A is the third-generation model within the GT family, and features the same injection-locking platform to that used by the GT40A and GT60A. In addition to the high output and high repetition rate, the GT61A provides a 30% improvement in spectral bandwidth (E95%) compared to its successful predecessors.”. As a result, the GT61A meets the requirements surrounding immersion lithography tools with high numerical apertures of 1.3 or more. In addition to improved performance, the GT61A also offers improved laser chamber life—enabling a significant reduction in down time and maintenance costs.

The GT40A/GT60A has already been accepted by major users in the global semiconductor industry, and its design concept and reliability are highly acclaimed in the industry. The GT61A is based on the same platform to maximize standardization as well as enable the use of common components, thereby allowing users to benefit from its high-reliability advantages right from the start.

Key Features of the GT61A:

1. Spectrum Performance
   Improving on the GT60A, which achieved a spectral bandwidth (E95%) at 0.5 pm, the GT61A reaches a spectral bandwidth of 0.35 pm. In addition, a newly developed, high-precision measuring instrument and stabilization mechanism, which comes as a standard feature, allows highly stable spectrum performance during the system’s entire lifetime, thus ensuring lithography processing stability.
2. High Reliability and High Stability
   Elongation of the laser chamber life allows the GT61A to simultaneously reduce maintenance downtime and costs. One of the other myriad advantages of the GT series is the ease of module replacement and serviceability, which in turn, helps ensure the high reliability and uptime so essential in today’s semiconductor fabs.

Gigaphoton will have key executives available to discuss the new GT61A during SEMICON Japan 2006, which starts today and runs through Friday, December 8, 2006, at Makuhari Messe, Chiba. Editors are invited to visit Gigaphoton’s booth 5C-723.

###

About Gigaphoton
Gigaphoton Inc. was founded in 2000 as a joint venture of Komatsu Ltd., the world’s No. 2 construction machinery manufacturer, and Ushio Inc., the world’s No. 1 lithography lamp manufacturer. Since then, Gigaphoton has been developing and marketing user-friendly, highly innovative laser light sources that make a great contribution to lithography technology so as to meet the stringent requirements of the ultra-fine circuit patterns of the gigabit era, and delivering them to major lithography tool suppliers in the global semiconductor industry. As the No. 2 excimer laser light source manufacturer in the world, Gigaphoton has already grown to dominate the Asian market, including Japan, with the largest number of installed bases in the region of any major semiconductor device manufacturer, while continuing to enjoy rapid growth in the U.S. and European markets. More information about Gigaphoton can be found on the company’s website at: www.gigaphoton.com

The company name, logo, GT40A, GT60A, and GT61A are trademarks of Gigaphoton, Inc. The content of this release may be revised without prior notice. Gigaphoton shall not be liable for updating or announcing a correction if the content of this release is changed for any reason in the future.  © 2006 Gigaphotonギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、N.A. 1.3を超えるHyper N.A露光機に対応するリソグラフィ用光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザの新製品「GT61A」（発振波長: 193 nm、発振周波数: 6,000 Hz）を開発したと発表しました。すでにレーザテストを終えて量産出荷が始まっており、ギガフォトンでは2007年中頃から液浸露光装置に搭載されて半導体工場での稼動が開始されると見込んでいます。

今日の最先端半導体リソグラフィプロセスでは、ますます加速する集積回路パターンの微細化に対応すべく、ArFドライリソグラフィが先端量産工場の主力となる一方で、液浸ArFリソグラフィ技術が次世代プロセスの主流となってきました。また、リソグラフィ光源のArFレーザに対しては、液浸ArFリソグラフィに対応できる高い出力、レンズのダメージを抑えて高いスループットを確保するための高周波数、スペクトル安定性能への要求が一層高まってきています。

ギガフォトンは、このような市場のリソグラフィーロードマップに対応して、2005年春より業界初となるインジェクションロック方式の露光用ArFエキシマレーザ「GT40A」(発振周波数: 4,000 Hz、出力: 45ワット)の量産出荷を開始し、2006年末には周波数を6,000Hz、出力を60Wまで高めたGT60Aを出荷しました。GT61Aは、GT40A/GT60Aに続くGTシリーズの最新モデルで、インジェクションロック方式を採用したプラットフォームの3世代目にあたります。ギガフォトンはGT60Aで実現した高出力、高周波数技術に加え、GT61AではN.A. 1.3以上の液浸露光装置へ対応するために、スペクトル幅(E95%)をGT40A/GT60Aから30%向上させることに成功しました。また、性能の向上だけでなくレーザチャンバの寿命を大幅に改善し、ダウンタイム低減・メンテナンス費用削減に大きく貢献します。

GT40A/GT60Aはすでに各国の主要ユーザーに数多く受け入れられており、その設計思想・信頼性が高く評価されています。GT61Aは、GT40A/GT60Aと同じプラットフォーム上に設計されており、最大限の共通化が図られているため、ユーザーにとってその導入当初から高い信頼性が期待できます。

GT61Aの特長

1. スペクトル性能

   スペクトル幅（E95%）0.5pmを実現したGT60Aに大幅な改良を加え、同じプラットフォーム上でスペクトル幅0.35pmを実現しました。また、新開発の高精度の計測装置および安定化機構を標準で採用したことにより、装置ライフタイムに亘り、スペクトル性能の高い安定性が可能となりました。これにより、露光プロセスの安定度への貢献が見込まれます。

2. 稼働率・信頼性

   レーザチャンバ寿命延長によりメンテナンスダウンタイムの低減と同時にコスト削減が可能です。もちろんGTシリーズの大きなアドバンテージであるモジュール交換性を含むサービス性も確保されており、半導体工場で必須とされる高信頼性・高稼働率を実現しています。また、実績のあるGT40A/GT60Aプラットフォーム上に設計され最大限の共通化が図られており、導入当初から高い信頼性が期待できますので安心して導入いただけます。

###

ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。

社名、ロゴは、株式会社ギガフォトンの商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。©2006 ギガフォトン

報道関係者お問合せ先
ギガフォトン株式会社　企画管理部　佐藤 日出一
TEL: 0285-28-8410　Email: hideichi_satou@gigaphoton.com

記事掲載時の連絡先
ギガフォトン株式会社　第一営業部　松井 優達
TEL: 0285-28-8415　Email: sales@gigaphoton.com
http://www.gigaphoton.com/