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2021年2月15日



2月13日に発生しました、福島県沖を震源地とする地震により、被災されたみなさまへ、心よりお見舞い申し上げます。また一日も早い復旧復興をお祈り申し上げます。



現時点におきまして、当社では震災による人命、建物、生産設備、保管製品、調達部品、物流、情報システム等への被害、影響はございません。



代表取締役社長 浦中　克己



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><tbody><tr><td>報道関係者向けの連絡窓口 ギガフォトン株式会社 経営企画部 Eメール: web_info@gigaphoton.com</td></tr></tbody></table></figure>

福島県沖地震による当社への影響に関するお知らせ

ギガフォトンは、2月22日(日)～2月26日(木)（アメリカ時間）に開催される「<a href="https://spie.org/search?term=gigaphoton&amp;pageSize=25&amp;pagesVisited=1&amp;sortBy=Relevance&amp;eventName=Advanced_Lithography">SPIE Advanced Lithography 2021</a>」（web開催）において、次の論文発表を行います。



この学会は、先端半導体の製造を担うリソグラフィ技術に関する、世界最大のイベントです。



弊社では、回路形成から基盤加工まで、多岐にわたる先端光源技術により生産歩留まりや稼働率を大きく改善するトピックスを以下の8件紹介する予定です。



<ul class="wp-block-list"><li>プレゼンテーション発表</li></ul>



February 25, 2021 • 10:50 AM PST | Session 11: EUV Source [Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII] Update of &gt;300W High Power LPP-EUV Source Challenge III for Semiconductor HVM &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; Author: Hakaru Mizoguchi; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11609-48]



February 24, 2021 • 9:40 AM PST | Session 4: Lithography Equipment and New Applications [Optical Lithography XXXIV] Latest ArF light source with speckle reduction technology for immersion lithography improving chip yield&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; Author: Hirotaka Miyamoto; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11613-11]



February 25, 2021 • 8:50 AM PST | Session 8: Novel Optical and ebeam/ion [Novel Patterning Technologies 2021] Processability of organic material for semiconductor packaging by 248 nm excimer laser&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; Author: Akira Suwa; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11610-27]



<ul class="wp-block-list"><li>ポスター発表</li></ul>



February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Optical Lithography XXXIV] ArF lightsource “GT66A” for next-generation immersion lithography enhancing EPE and CD performance &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; Author: Tommy Oga; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11613-30]



February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV] Study of further CD and OL performance improvement by introducing new E95% spectral bandwidth and Wavelength functionality for ArFi lithography lightsource&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; Author: Tommy Oga; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11611-92]



February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Optical Lithography XXXIV] Advanced spectral engineering: A new way of process aware laser spectra optimization for optical lithography&nbsp;&nbsp; Author: Koichi Fujii; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11613-33]



February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Optical Lithography XXXIV] Lithocell availability improvement through light source maintenance cycle improvement and optimization and its availability impact analysis for cutting-edge ArFi Light source&nbsp;&nbsp;&nbsp; Author: Takehiko Tomonaga; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11613-29]



February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII] The development progress of the High Power LPP-EUV light source using a magnetic field Author: Hirokazu Hosoda; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11609-52]

SPIE Advanced Lithography 2021での論文発表予定

2020年12月22日、ギガフォトンは20周年事業の一環である地域貢献を目的に、ウィルス感染予防用のアルコール自動噴霧器を小山市の全小中学校へ寄付しました。アルコール自動噴霧器は、12月22日～24日の間にギガフォトン社員が市内36校を訪問・設置しました。各校からは「生徒達の感染防止に大いに役立ち、大変有難いです。」等の感謝の声を多く頂き、また小山市長からも感謝状が授与されました。



ギガフォトンは今後も、お客様や業界の発展のみならず、地域の皆様の健康・生活に貢献する企業として尽力していきます。



<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter"><img decoding="async" src="https://www.gigaphoton.com/wp-content/uploads/2021/01/8fa0d593c50be4eb8f339a14ae0233bd-300x210.gif" alt="" class="wp-image-6722"/></figure></div>



＜感謝状授与式の様子　市長公室にて＞

ギガフォトン、アルコール噴霧器を小中学校へ寄付

15年ぶりのフルモデルチェンジで1.5倍の高出力を実現



栃木県小山市；2020年11月4日、半導体リソグラフィ用光源メーカーである<a href="https://gigaphoton.com">ギガフォトン株式会社</a>（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、新型KrF露光装置用光源「G60K」を10月29日に出荷したと発表しました。



新型KrF用光源「G60K」は、約15年ぶりのフルモデルチェンジと新型電源ユニットの導入により、従来比1.5倍の出力60Wを可能にしました。これにより、スキャナーの生産性を最大150%改善することが期待できます。また、ボディは拡張性を兼ね備えた新型プラットフォームを採用し、将来のKrFスキャナーの生産性拡張に対応するための光源の性能向上にも対応しています。



従来のKrF光源は、高出力になるとスループットは上がるものの、モジュール交換増加によるダウンタイムが増え、結果アベイラビリティが下がるというジレンマがありました。「G60K」はその新技術により、ダウンタイムを増やすことなく、高出力・高アベイラビリティの両立に成功しています。また、高ドーズレイヤーにおける最大スループットの実現も可能となっています。



ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「ギガフォトンのKrF光源は我々の技術と経験が詰まった製品であり、お客様から長きに渡り高い評価を得ています。今回15年ぶりでフルモデルチェンジしたG60Kは、フィールドで高稼働し、お客様の生産性を一層高めると確信しています。ギガフォトンは引き続き、生産性を最大化する製品・サービスを提供していきます。」



ギガフォトンについて 2000年設立以来、ギガフォトンは光源サプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細については<a href="https://gigaphoton.com">https://gigaphoton.com</a>をご覧ください。



報道関係者向けの連絡窓口： ギガフォトン株式会社 経営企画部 Eメール: <a href="mailto:web_info@gigaphoton.com">web_info@gigaphoton.com</a>[:cs]

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福島県沖地震による当社への影響に関するお知らせ

SPIE Advanced Lithography 2021での論文発表予定

ギガフォトン、アルコール噴霧器を小中学校へ寄付

ギガフォトン、最新KrF光源機種「G60K」を出荷開始